资讯来源：日经中文网2024年9月27日

 9月26日，日本佳能宣布，将首次供应半导体的下一代制造设备。这批设备将交付给力争开发尖端半导体的美国政企组织。该设备使用“纳米压印”自主技术在晶圆上绘制电路图。与使用光的传统方法相比，纳米压印的优势在于能够抑制耗电量和成本。

佳能将向“得克萨斯州电子研究所”供货，该研究所是得克萨斯大学奥斯汀分校支持的一个组织，包括得克萨斯州和美国英特尔等半导体企业都参与其中。预计将被半导体企业等用于研发。

该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前，标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是将刻有电路图的模具像“印章”一样压在晶片上。

佳能从2014年起正式开发该技术，2023年10月开始销售设备。这是佳能在宣布上市之后首次出货。该设备还兼容制造尖端逻辑半导体所需的精细线宽。

传统设备需要配备多个镜头，但佳能的设备结构简单，耗电量仅为先进领域传统方法的十分之一。即使是复杂的三维电路图也可以通过一次冲压绘制出来。该设备是与铠侠株式会社(KIOXIA Corporation）和大日本印刷合作推进研发的。

同一天接受采访的佳能光学设备事业本部副事业本部长岩本和德表示：“我们的目标是在三到五年内每年销售十几台”。

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佳能高管：压印技术有望造2纳米半导体

佳能面向绘制半导体电路不可或缺的光刻工序，推出了搭载自主 “纳米压印（Nano-imprint）”技术的设备。跟利用强光在晶圆上烧刻电路的普通方法不同，纳米压印的原理是像印章一样压印原版。由于可以降低成本和耗电量，因此备受半导体厂商期待。日本经济新闻（中文版：日经中文网）记者采访了佳能的半导体机器业务部长岩本和德，请他介绍了技术优势、课题及业务预期。

记者：纳米压印是什么样的技术？

 　　岩本和德：就是把刻有半导体电路图的掩膜压印到晶圆上。在晶圆上只压印1次，就可以在合适的位置形成复杂的二维或三维电路。如果改进掩膜，甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。

   　特点是设备构造简单。与使用很多透镜，一边照射光一边烧刻电路的传统方法相比，耗电量降至10分之1。设备价格也相对便宜，可以低成本实现半导体微细化。

 　 由于可以1次形成三维电路，还可以用于生产需要微细化到几十纳米的XR（虚拟现实·增强现实·混合现实等的总称）用超透镜（Metalens）等。

记者：客户的成本实际降低多少？

  　岩本和德：（客户的成本）因条件而异，据估算1次光刻工序需要的成本有时降至传统光刻设备的一半。（纳米压印）设备的规模减小，在研发等用途也方便引进。

记者：此次发售的经过是什么样的？

  　岩本和德：从2017年左右开始，我们与铠侠（Kioxia，当时是东芝存储器）和大日本印刷3家公司持续进行合作开发。大日本印刷负责生产掩膜，铠侠在四日市工厂等验证把设备用于生产闪存。

      量产用途的实用化已有眉目，我认为可以面向客户销售。在3家公司以外，也将增加从事纳米压印开发和生产的合作伙伴，希望扩大生态系统。

记者：纳米压印光刻设备有其他竞争公司吗？

  　岩本和德：面向半导体光刻，开展纳米压印设备业务的在全世界只有我们公司，准入门槛很高。我认为纳米压印的难度在于重叠精度。需要在晶圆上定位以准确重叠掩膜，本公司通过以往的光刻设备培育的测量技术发挥了作用。